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主要制備稀土拋光粉的方法
日期:
2021年07月28日
來源:
在稀土拋光粉生產制備流程中,沉淀法是以稀土溶鹽為原料鍛燒沉淀,主要方法有碳酸鹽法、堿鹽法、草酸鹽法、氫氧化物、硫酸復鹽等。
(1)以碳酸稀土混合物(Ce02含量約45%)為原料,制備高鈰拋光粉的工藝:碳酸稀土混合物經鍛燒生成氧化稀土,用酸處理CeO(oH)2沉淀和三價稀土溶液,洗滌CeO(OH)2沉淀、干燥、鍛燒可得到Ce02含量98—99%的高鈰拋光粉,用酸處理得到Ce02含量5~5um的高鈰拋光粉,平均粒徑1.5~2um,相對其他
稀土拋光粉
有很好的拋光能力。
(2)氯化稀土用水溶解成氯化稀土溶液,用堿和氧化劑處理得氫氧化鈰,再用酸處理得鈰濃縮液,加入沉淀劑得沉淀物,經于干燥、鍛燒、粉碎、分級、混合得到含CeO2、80%一90%的氯化鈰。
(3)稀土輕氯化物、氟硅酸、碳酸氫銨為沉淀劑,經稀土氟碳酸鹽沉淀、水洗、過濾、鍛燒、篩球磨等工序。所得產品顆粒細、均勻、化學活性強、拋光效率高、用途廣。
(4)采用氯化稀土或分離的鈰富集物作原料,得到了質量高的稀土拋光粉,但其生產工藝多,成本高。通常采用硫酸銨、草酸、碳酸鈉或碳酸氫銨及氨水作為沉淀劑,經鍛燒、分級、過濾、干燥等工序制成的拋光粉,CeO2含量在45%一55%左右,更佳鍛燒溫度為850—950℃,鍛燒時間為2.5—3h。而由不同沉淀劑配制的拋光粉具有不同的性質,其中以硫酸銨為沉淀劑,經堿化、氟硅酸氟化后得到的拋光粉的拋蝕量更大,而以碳酸氫銨及氨水為沉淀劑,加水煮沸、氟硅酸氟化后得到的
稀土
拋光粉
的拋蝕效果更差。
上一個:
玻璃劃痕修復的原理是什么
下一個:
稀土拋光粉各環(huán)節(jié)生產的主要目的
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